美日荷等发达国家一直对高科技产品和技术出口实施严格的管制措施，特别是在半导体设备领域，针对中国的出口管控尤为明显。2022年，美国进一步升级了对华芯片制造设备的出口管制政策，联合日本和荷兰等国，意图阻止高端半导体技术流向中国，这其中就包括对第四代深紫外(DUV)浸没式光刻机出口中国的禁令。此类设备对于中国在先进制程芯片研发和生产上的突破至关重要，其出口限制无疑对我国半导体产业升级带来了严峻挑战。

同时，美国还积极推动荷兰阿斯麦尔(ASML)等国际领先光刻机制造商停止向中国出售其最先进的第四代DUV浸没式光刻机。这类设备能够在硅片上实现极小尺寸的图形曝光，对于大规模集成电路的批量生产和技术创新具有决定性作用。此举无疑加大了中国半导体产业发展的外部压力，同时也反映了国际科技竞争格局下的复杂博弈态势。

鉴于中国在全球镓、锗产业链中的显著地位——中国不仅是全球最大的镓和锗生产国，同时也是相关技术研发的重要基地，通过对这些战略性资源的出口管理，中国可以有效地运用自身的供应链优势，在国际科技竞争中形成有力的反击策略，从而保障本国半导体产业的稳定发展。

具体来说，美国商务部可能出台一系列法规，对中美间云计算服务的提供施加更严苛的条件，旨在切断中国获取云端高性能计算能力的途径，这在AI芯片设计阶段尤为重要。这种做法不仅阻碍了中国企业的正常商业运营，而且也显示出美国在科技领域对中国的全面围堵态势。